“挑战×机遇2020”——科技艺术在中国首届学术论坛综述

作者：刘明鑫; 孙千惠

来源：美术研究, 2020, (06): 52-55.

DOI：10.13318/j.cnki.msyj.2020.06.011

<正>以"挑战×机遇2020"为主题的首届学术论坛于2020年8月15日在中央美术学院召开。由中央美术学院科技艺术研究院主办,中央美术学院学报编辑部和中央美术学院实验艺术学院承办。本次论坛共邀集14位学者就相关议题展开热烈研讨。论坛分为两场,分别以"遗产、理论与反思"和"前沿实践与策展"为题展开探讨。中央美术学院副院长苏新平教授首先致辞。

• 单位
  中央美术学院