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摘要
随着我国经济社会的快速发展和科技水平的进一步提升,半导体工业技术得到了快速的发展和进步,而随着集成电路特征尺寸不断变小、半导体部件性能准确度要求不断提高等市场需求的改变,制约半导体工业发展关键技术之一的光刻技术的重要作用不断凸现,激光光刻技术应运而生,在得到进一步发展的同时也面临着新的挑战。在此背景下,本文从激光光刻技术的有关理论知识出发,讨论了激光投影式光刻技术、激光无掩膜光刻技术等,并进一步探究了激光光刻技术在实际工业生产中的应用和其未来发展前景,旨在为我国激光光刻技术水平的进一步提升带来一定的思考和启迪。
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