铁电薄膜漏电流研究现状

作者：杨艳; 张树人; 刘敬松; 张洪伟; 刘蒙

来源：绝缘材料, 2006, (04): 51-55.

DOI：10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2006.04.015

• 铁电薄膜
• 漏电流
• 导电机理 ferroelectric thin film
• leakage current
• conductive mechanism

铁电薄膜的漏电流问题一直是困扰铁电存储器发展的重要问题。文章介绍了铁电薄膜的主要导电机理如热激发电子电导、空间电荷限制电流(SCLC)、Pool-Frenkel发射、肖特基发射等,影响漏电流大小的主要因素如薄膜厚度、工艺温度、晶粒尺寸、电极材料、搀杂离子等。同时介绍了漏电流对铁电薄膜极化和抗疲劳特性的影响。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室