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摘要
本文对人脸识别中使用的940nm窄带滤光片进行设计及制备，研制一种具有低角度效应的窄带滤光片。选择TiO2、SiO2作为高、低折射率材料，在EssentialMacleod软件中对膜系进行设计，通过改变间隔层材料对膜系进行优化，最终设计的膜系层数为11，膜系总厚度为2480.76nm。采用电子束热蒸发沉积技术对薄膜进行镀制，使用傅里叶红外光谱仪完成透射率光谱特性测试。最终研制的滤光片中心波长为940nm，在截止区间(200～1100nm)内，通带透射率大于80%，平均截止透射率小于1%,0°～22°通带偏移量为14nm。
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