纳米结构TiN薄膜的制备及其摩擦学性能

作者：张玉娟; 吴志国; 阎鹏勋; 薛群基

来源：材料研究学报, 2004, (03): 280-284.

• 无机非金属材料
• 氮化钛
• 磁过滤等离子体
• 纳米薄膜
• 摩擦学 inorganic non-metallic materials
• TiN
• filtered cathodic arc plasma
• nano-structure thin films
• tribology

在室温条件下,用磁过滤等离子体装置在单晶硅基底上制备了纳米结构TiN薄膜.分析了薄膜的表面形貌、晶体结构,测量了TiN薄膜的硬度,研究了基底偏压对薄膜结构性能的影响.结果表明,用此方法制备的TiN薄膜表面平整光滑,颗粒尺寸为50-80 nm;随着基底偏压的增大薄膜发生(111)面的择优取向.随着偏压的提高,薄膜的颗粒度稍有增大,摩擦系数增大,偏压提高,晶面在较密排的(111)面有强烈的择优取向,硬度也有所增大.在其它条件相同的情况下载荷越大,摩擦系数越大.不起用磁过滤等离子体法制备的纳米结构TiN薄膜具有较低的摩擦系数(0.14-0.25).

• 单位
  固体润滑国家重点实验室; 中国科学院兰州化学物理研究所; 兰州大学