第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术

作者:张以忱
来源:真空, 2023, 60(02): 86-88.
DOI:10.13385/j.cnki.vacuum.2023.02.15

摘要

<正>(接2023年第1期88页)2.1 PECVD技术原理与特征等离子激发的化学气相沉积借助于真空环境下气体辉光放电产生的低温等离子体,增强了反应物质的化学活性,促进了气体间的化学反应,从而在低温下也能在基片上形成新的固体膜。图1是PECVD装置示意图。将工件置于低气压辉光放电的阴极上,然后通入适当气体,