第二十二讲 化学气相沉积(CVD)技术

作者:张以忱
来源:真空, 2023, 60(05): 102-104.
DOI:10.13385/j.cnki.vacuum.2023.05.17

摘要

<正>(接2023年第4期88页)值得指出的是,平行圆板形电容耦合的RF-PCVD装置在沉积过程中上极板上的沉积物较容易脱离而沾污沉积膜层,影响膜层质量。有时,膜厚均匀性也不够理想。2.5.3电感耦合RF-PECVD装置电感耦合装置,一般是把高频线圈置于真空沉积反应室外,利用它产生的交变磁场在反应室内感应交变的电流,

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