少层h-BN纳米片的制备及性能研究

作者：类伟巍; 田野; 柳娜; 齐诗慧

来源：吉林师范大学学报(自然科学版), 2023, 44(02): 1-6.

DOI：10.16862/j.cnki.issn1674-3873.2023.02.001

• BN纳米片
• 发光特性
• 光学带隙

提出了一种简单且非催化的方法制备少层氮化硼(BN)纳米片.获得的BN纳米片大多由5～10个原子层组成，厚度小于5 nm.最重要的是，由于少数激子和声子之间存在较强的相互作用，少层BN纳米片在紫外范围内表现出较强的光致发光.基于光致发光激发谱和紫外-可见吸收光谱分析，少层h-BN纳米片在5.8 eV和6.4 eV时显示出较大的光学带隙.光致发光、光致发光激发和紫外-可见吸收光谱的研究结果表明，目前的少层h-BN纳米片在紫外发光器和光电纳米器件方面具有广阔的应用前景.

• 单位
  物理学院; 吉林师范大学