(Ti,Ta)N三元薄膜的制备和表征

作者：李立^*; 焦新莹; 刘鸿鹏

来源：真空科学与技术学报, 2019, 39(08): 689-693.

DOI：10.13922/j.cnki.cjovst.2019.08.12

• 氮化钛薄膜氮化钽薄膜
• (Ti,Ta)N三元薄膜
• 真空阴极弧沉积

在用真空阴极弧制备TiN和TaN两种薄膜的基础上,采用两个独立的金属弧源同时放电的方法成功制备出(Ti,Ta)N三元薄膜。通过X射线衍射、X射线光电子能谱、原子力显微镜对TiN、TaN和(Ti,Ta)N薄膜的微结构、化学组分、表面形貌进行了比较分析,发现制备的(Ti,Ta)N三元薄膜是以立方结构为主的固溶体相构成,另外还存在单斜结构的Ta3N5相。与两种二元薄膜相比,其XRD图谱的衍射峰显著变宽,择优取向(200)的择优程度进一步加强。三元薄膜表面的Ti∶Ta∶N比为0.46∶0.34∶1,晶粒大小为纳米尺度。

• 单位
  中国民航大学