摘要
本发明公开了一种微型化装置的制备方法及其应用,涉及微纳米加工领域,系统主要包括:飞秒激光器、空间光调制器、第一透镜、第二透镜、高倍物镜、加工平台、计算机,通过由透镜1和透镜2组成的光束准直系统和高倍物镜后,光束在被物镜聚焦之前实现了收缩。激光束照射到反射的空间光调制器上,并加载计算机生成的全息图以生成各种所需的模式结构。用图形化亚焦点代替单焦点,在单次曝光中加工设计的结构。特别是在制作复杂的大区域微结构方面,图形曝光具有更高的效率;本发明提供的图案化曝光和单点直写相结合技术是一种简单、快速和有效的集成二维和三维微观结构的方法,可用于微流控芯片加工等实际应用。
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