静置处理对光谱检测w（C）量稳定性的影响

作者：程兆虎; 吴来发; 吴友坤; 刘伟; 陈树龙

来源：现代铸铁, 2019, 39(06): 56-58.

• 静置处理
• w(C)量
• 光谱检测

介绍了铁液静置处理对光谱检测w(C)量稳定性影响的研究方法:静置温度控制在1 490～1 510℃、1 510～1 530℃、1 530～1 550℃,静置时间分别为5 min、