多晶硅清洗装备及技术发展展望

作者:杨永亮; 石何武; 张升学; 郑红梅
来源:有色设备, 2020, 34(06): 1-4.
DOI:10.19611/j.cnki.cn11-2919/tg.2020.06.001

摘要

多晶硅的清洗环节作为多晶硅后处理过程中的关键环节,其装备技术的发展随着近年来多晶硅生产的规模化、精细化、智能化发展也在不断的优化提升,本文回顾了多晶硅清洗装备技术的发展历程,总结了多晶硅清洗的特点,并针对当前多晶硅的产品特点,对未来多晶硅清洗装备技术进行了展望,旨在为多晶硅生产企业在清洗装备技术选择上提供指导性意见。