随着特征尺寸(CD)的不断减小和套刻精度的不断提高,对AMC(气相分子污染物)引起的污染问题越来越重视。投影光刻机中对AMC的浓度的控制,通常使用高纯气体(如高纯氮气、超洁净干空气、超洁净湿空气等)"气浴"吹扫关键元器件,可有效阻断AMC的扩散、稀释AMC的浓度。阐述超洁净湿空气在投影光刻机中的应用以及超洁净湿空气的制备、湿度控制方法等。通过实验分析影响湿度控制的主要因素。
科研之友
微信
新浪微博
Facebook
分享链接
