光刻设备中冷却水系统污染控制研究

作者：王明

来源：集成电路应用, 2021, 38(03): 28-30.

DOI：10.19339/j.issn.1674-2583.2021.03.011

• 集成电路制造
• 水系统
• 机理研究
• 污染控制

阐述光刻设备中冷却水系统污染控制,针对水系统运行时产生的污染物,研究其产生机理,分析其来源,定义其控制手段,为系统可靠运行提供保障。