氧化石墨烯膜的还原条件探究及应用

作者：齐凯; 龚■^*; 李昕^*; 罗胜利; 张宇群; 沈文东; 陈清清

来源：北京服装学院学报(自然科学版), 2020, 40(01): 14-20.

DOI：10.16454/j.cnki.issn.1001-0564.2020.01.003

• 氧化石墨烯
• 紫外光照
• 碘化氢还原
• 方块电阻
• 电致发热膜

采用改进的Hummers法制备了氧化石墨烯并涂覆于PET基底上,分别采用紫外光照射和HI还原法对若干组膜进行还原,控制还原温度和时间,通过扫描电镜观察每组膜的表面,将还原后膜的红外光谱、XPS谱图与氧化石墨烯的谱图比对,并采用四探针法计算出每片膜的方块电阻。结果表明:紫外光照射处理后的膜表面要比HI处理后的表面光滑,但电阻很高,红外谱图显示还原效果不佳;碘化氢80℃下还原2.0 h所得膜的红外谱图显示含氧官能团基本全部还原,还原效果好,膜方块电阻为(2.35±0.19)Ω/sq,在施以直流电压2.5 V、电流0.45 A的条件下,通电发热温度可达37.1℃,有望用于电致发热材料。

• 单位
  广州纤维产品检测研究院; 北京服装学院