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摘要
本发明公开了一种具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层制备方法,包括：将预处理后RAFM钢与纯钨靶材安装在磁控溅射腔室内,将腔室内抽真空至2×10～(-4)Pa,设定工作气压为2.0Pa,溅射功率为20-60W,磁控溅射60min,得到具有优异抗等离子体辐照性能的钨涂层。本发明制备的不同表面形貌钨涂层表面均匀致密,物相结构为典型的BCC结构,涂层截面为致密的柱状晶结构。本发明具有特定表面组织形貌的“钨涂层+RAFM钢”结构具有良好的抗辐照性能,在高通量He离子条件下进行抗离子辐照性能的测试,分析了钨涂层的结构形貌在高He等离子体通量下的损伤行为,确定了针叶状结构的钨涂层优异的抗辐照性能和可用的辐照环境。
- 单位
