CPU干刻清洗工艺在金属刻蚀去胶腔上的评价及应用

作者：王倩

来源：电脑知识与技术, 2006, (29): 142-144.

• CPU干刻清洗
• 金属刻蚀
• 干刻
• 去胶腔
• 去胶速率 CPU Dry Clean
• Metal Etch
• Dry Etch
• Ash Chamber
• Ash Rate

本文以CPU金属刻蚀去胶腔为背景,简述干刻清洗工艺开发和评价过程。针对实际应用中的问题,展开讨论。通过实际案例分析,展示了CPU干刻清洗工艺的应用价值。

• 单位
  上海交通大学; 上海华虹NEC电子有限公司