铁电薄膜材料、集成铁电器件以及与之相应的物理问题,引起物理学、材料科学与工程、微电子与光电子学等领域的科学技术人员和学者的关注。文章介绍了铁电薄膜新研究进展,对目前最常用的几种主要制备方法进行了评述,重点分析了铁电薄膜不同制备方法的优缺点。并对未来的可能进展作了简单的描述,指出了目前关于铁电薄膜研究中的一些问题,并提出一些解决问题的办法。
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