纳米ITO粉体的团聚与分散分析

作者：杨扬; 傅清波; 谢梦

来源：新材料产业, 2019, (08): 54-57.

DOI：10.19599/j.issn.1008-892x.2019.08.014

<正>铟锡氧化物(ITO)是一种N型半导体材料,通常包括ITO粉体、ITO靶材以及ITO导电薄膜。目前制备ITO粉体常见的方法有:水热合成法、共沉淀法机械混合法和喷雾热分解法。其中,国内主要以化学沉淀法为主,该方法具备制备成本低、方法简单、易于工业化生产优点,但最大的缺点是易出现纳米颗粒的团聚[1]。粉体发生团聚现象后,易形成较大的团聚体,从而影响其在ITO靶材中的性能应用,所以纳米ITO粉体的团聚已成为ITO靶材

• 单位
  株洲冶炼集团股份有限公司