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摘要
采用天然半导体矿物黑钨矿作为光催化剂用于降解废水中的土霉素。研究了固液比、光照强度、初始浓度对土霉素降解的影响，并解析了降解机理和路径。结果表明，可见光下黑钨矿对土霉素具有较好的降解效果，在浓度为15 mg/L、pH=4.5、固液比为1.0 g/L、光照强度60 W的条件下，120 min时土霉素的去除效率可以达到94.3%，黑钨矿对于土霉素的去除速率符合一级动力学反应规律。淬灭实验和电子顺磁光谱结果表明羟基自由基(·OH)和超氧阴离子自由基(·O_2~-)是导致土霉素降解的主要活性氧化物种，分别在120 min时降解了20.4%和10%的土霉素。液相色谱-质谱联用显示土霉素经过羟基化、去甲基化、和脱羰化降解为中间产物，使其化学毒性下降，有利于工艺在抗生素处理中的工业化应用。
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