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摘要
紫外微压印制品的脱模过程可以直接影响制品的成型质量。为了解决微纳紫外压印过程中微结构脱模困难的问题，通过建立微纳紫外压印过程中的微结构模型，采用有限元模拟的方式得到微结构在脱模过程的受力云图，确定了紫外光固化胶与模板上应力集中的特征点，同时，得到了特征点采用不同脱模方法下的“应力-时间”曲线，分析特征点的应力状态，得到模板微结构深宽比及脱模方法对脱模过程的影响，通过对比可知，揭开式脱模与整体式脱模相比，紫外胶微结构更不易破损。最终，通过微纳紫外压印实验对模拟结果进行了验证，结果表明，揭开式脱模得到的抗反射微结构样品与整体式脱模得到的抗反射微结构样品的透光率相比，提高了3.1%,因此，揭开式脱模更完整地复制了抗反射微结构，证明了模拟结果的可靠性。
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