离子溅射仪油雾污染对溅射基底的影响

作者：彭波; 袁秋; 孟晓敏^*

来源：真空, 2023, 60(04): 13-17.

DOI：10.13385/j.cnki.vacuum.2023.04.03

• 离子溅射仪
• 油雾分子
• 基底
• 球状颗粒

利用光学显微镜、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜以及能谱仪研究了油雾污染对溅射基底（硅片、称量纸、铜箔和载玻片）微观形貌和元素含量的影响。结果表明：溅射沉积不同时间后，硅片基底上均出现球状颗粒，且颗粒随着溅射时间延长而聚集或长大；溅射前硅片的碳含量为4.55%，经溅射沉积50s后其表面碳含量约为31.55%；铜箔和称量纸溅射沉积50s后的光学形貌与溅射前差异不大，未出现球状颗粒；载玻片溅射沉积50s的光学形貌与硅片的接近，表面随机分布着球状颗粒。硅基类基底对油雾污染极其敏感，表现为经过溅射处理后样品表面分布着球状颗粒，且碳元素质量分数约为溅射前的7～8倍。

• 单位
  重庆机电职业技术学院