一种100V分离栅沟槽MOSFET的优化设计

作者：罗小梦; 王立新; 杨尊松; 王路璐

来源：微电子学与计算机, 2017, 34(10): 11-15.

DOI：10.19304/j.cnki.issn1000-7180.2017.10.003

• 分离栅
• MSO结构
• 特征导通电阻
• 特征栅漏电荷

把多个侧壁阶梯氧化层应用于分离栅沟槽MOSFET(Split-Gate Trench MOSFET,SGT结构),并把改进的结构称为多阶梯侧壁氧化层分离栅沟槽MOSFET(Multi-Step Sidewall Oxides Split-Gate Trench MOSFET,MSO结构),之后介绍了MSO结构的器件结构和制备工艺,重点借助TCAD仿真软件对MSO结构的外延层掺杂浓度、顶部侧氧厚度与底部侧氧厚度进行优化,最终仿真得到击穿电压为126V,特征导通电阻为30.76mΩ·mm2和特征栅漏电荷为0.351nC·mm-2的MSO结构.在近似相等的击穿电压下,与传统SGT结构相比,MSO结构的特征导通电阻及特征栅漏电荷均有所降低,这两项参数综合反映器件的优值(FOM=Qgd,sp×RonA)降低了39.6%.

• 单位
  中国科学院大学; 中国科学院微电子研究所