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摘要
缓冲层作为一种调控铁电薄膜畴组态和引入新的微结构的有效手段被广泛采用。本文在大拉应变KTaO3衬底上生长了LaNiO3/PbTiO3多层膜,利用透射电子显微学方法,对该薄膜体系中的缺陷结构及其与铁电畴的交互作用进行了细致地研究。结果表明,由于巨大的界面失配,LaNiO3层中形成密集的Ruddlesden-Popper型层错,该层错经由LaNiO3/PbTiO3异质界面诱导PbTiO3中形成贯穿型的层状缺陷,这种缺陷的形成对PbTiO3内部畴结构有着一定的影响。利用电子能量损失谱,发现层状缺陷处Ti元素的价态有所降低,可能源于LaNiO3与PbTiO3之间的电荷传递。这一结果揭示了中间缓冲层对PbTiO3薄膜内部微结构产生重要的影响,同时也为铁电畴的调控提供了新的途径。
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