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摘要
离轴照明技术是光刻工艺中提高成像分辨率的关键技术之一。本文研究一种基于傅里叶合成技术的照明系统，能够实现任意照明模式并提高成像数值孔径，具有灵活高效、能量利用率高、易于实现等优点。文章通过计算仿真和搭建的实验装置验证了傅里叶合成技术实现任意照明模式的可行性，掌握傅里叶照明系统所需的数值孔径合成算法，实现照明所需发散度。基于优化的照明程序版图在实验中实现圆盘、二级、四极、环形等各种照明模式，光强分布较均匀、照明形状无畸变。当MEMS扫描角度为±1°、选用收集镜成像倍率为10倍时，在收集镜上可实现最大扫描照明尺寸将达到30mm以上，在焦点面上实现4×NA值将达到0.6以上，可匹配当前及下一代光刻工艺及掩模检测应用的照明需求。
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