BeO陶瓷基片表面平整化改性工艺研究

作者：曾理; 陈宏伟; 雷贯寰; 张鹏; 张继华; 杨传仁

来源：压电与声光, 2015, 37(04): 726-728.

• 基片改性
• 表面粗糙度
• 热导率

采用在BeO陶瓷基片表面被覆玻璃釉的方法实现基片表面的平整化改性,并利用台阶测试仪、扫描电子显微镜(SEM)等手段研究不同烧结制度对被釉基片表面粗糙度的影响。实验结果表明,相较于抛光处理的BeO陶瓷基片的轮廓平均偏差和算数均方根偏差值分别为62.8nm和141.9nm,被釉平整化改性的BeO陶瓷基片的参数值可分别降至18.2nm和24.9nm,可实现高效率、低成本的BeO陶瓷基片平整化改性。

• 单位
  电子科技大学; 电子薄膜与集成器件国家重点实验室