CrTiAlCuN多元硬质薄膜的制备及其性能

作者：林松盛; 杨建成; 汪唯; 郭朝乾; 唐鹏; 苏一凡; 代明江

来源：材料研究与应用, 2021, 15(03): 191-195.

• CrTiAlCuN膜
• 磁控溅射
• 离子束辅助

采用离子束辅助磁控溅射技术制备CrTiAlCuN薄膜,利用扫描电镜(能谱仪)、X射线衍射仪、硬度计、划痕仪及磨擦磨损试验仪分析检测膜层的结构及主要力学性能.结果表明:所制备CrTiAlCuN膜层厚度约2.0μm,膜层细腻致密,呈典型的柱状晶生长;膜层中的主要元素是Cr,其含量占40%左右;膜层呈现出与CrN相近的晶体结构和晶格常数,晶格中部分Cr原子被Ti和Al替代;膜层的显微硬度达3255Hv,结合力为74N,而Cu的引入使摩擦系数降低至0.366,薄膜具有优良的综合性能.

• 单位
  广东省现代表面工程技术重点实验室; 广东省科学院; 清远市富盈电子有限公司