低能Ar离子束辅助沉积Cu、Ag、Pt薄膜

作者：江炳尧; 冯涛; 任琮欣; 柳襄怀

来源：核技术, 2008, (01): 10-14.

• 离子束辅助沉积
• Cu、Ag、Pt薄膜
• 择优取向 Ion beam assisted deposition
• Cu
• Ag and Pt thin films
• Preferred orientation

采用低能Ar离子束辅助沉积方法,在Mo/Si(100)衬底上分别沉积Cu、Ag、Pt薄膜。实验发现,若辅助轰击的Ar离子束沿衬底法线方向入射,当离子/原子到达比为0.2时,沉积的Cu膜呈(111)晶向,而Ag、Pt膜均呈(111)和(100)混合晶向。当辅助轰击的Ar离子束偏离衬底法线方向45°入射时,沉积的Cu、Ag、Pt膜均呈(111)择优取向。采用Monte Carlo方法模拟能量为500eV的Ar离子入射单晶Ag所引起的原子级联碰撞过程,分别算得Ar离子入射单晶Ag(100)面、(111)面时,Ar离子的溅射率与入射角和方位角的关系。对离子注入的沟道效应和薄膜表面的自由能对薄膜择优取向...

• 单位
  华东师范大学; 中国科学院上海微系统与信息技术研究所; 信息功能材料国家重点实验室