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摘要
本文阐述了光刻投影物镜的畸变检测原理和畸变拟合算法，综述了三种典型的国内外光刻投影物镜畸变检测技术：曝光检测、空间像检测和波前检测。指出了三种检测技术的优缺点，比较了三种技术的测量精度和检测速度。曝光检测法基于曝光工艺及设备，测量重复性<1 nm，适用于光刻工艺厂商；空间像检测和波前检测法基于光电传感器，测量速度快，测量精度可优于0.4 nm。对于1x nm及以下光刻节点，多通道检测技术是提高畸变检测精度与速度的重要发展方向。
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本文阐述了光刻投影物镜的畸变检测原理和畸变拟合算法，综述了三种典型的国内外光刻投影物镜畸变检测技术：曝光检测、空间像检测和波前检测。指出了三种检测技术的优缺点，比较了三种技术的测量精度和检测速度。曝光检测法基于曝光工艺及设备，测量重复性<1 nm，适用于光刻工艺厂商；空间像检测和波前检测法基于光电传感器，测量速度快，测量精度可优于0.4 nm。对于1x nm及以下光刻节点，多通道检测技术是提高畸变检测精度与速度的重要发展方向。
