光刻设备知识产权战略研究

作者：张立佳; 齐月静; 张理垟; 李国和; 郭馨; 李慧; 崔惠绒; 周翊

来源：科技和产业, 2019, 19(02): 106-112.

• 光刻设备
• 知识产权
• 战略

我国高端集成电路(IC)产业严重受限于落后的光刻制造装备技术和产业,2016年进口约2 271亿美元,制约了我国电子信息产业的升级,成为重大的国家安全隐患。习近平主席说"实践反复告诉我们,关键核心技术是要不来、买不来、讨不来的",2008年以来我国启动科技重大专项"极大規模集成电路制造装备及成套工艺"(02专项),展开IC光刻制造装备及工艺关健技术攻关。通过对国际上先进光刻设备制造企业知识产权战略研究,调研其专利形成的关键技术模块,寻找我国光刻制造业研发的潜在技术入口,提高创新起点,引导研发活动向具有自主创新的目标,集中力量在光刻机国际前沿技术上有所突破,创造更多的自主知识产权。

• 单位
  中国石油大学（北京）; 中国科学院光电研究院