磺基水杨酸对镍硫合金涂层结构及电化学性能的影响

作者：何捍卫; 刘红江; 周科朝

来源：中国有色金属学报, 2005, (11): 134-139.

DOI：10.19476/j.ysxb.1004.0609.2005.11.024

• 磺基水杨酸
• Ni-S沉积层
• 电化学活性
• 附着力 sulphosalicylic acid
• Ni-S deposits
• electrochemical activity
• adhesion

以硫脲为硫源、磺基水杨酸为改性剂,采用改进的Watt浴体系电沉积制备镍-硫合金涂层电极,用SEM观察涂层表面形貌,XRD分析涂层结构与相组成,电化学测试方法分析涂层的电化学行为。结果表明,磺基水杨酸在电沉积过程中既促进了晶核的形成,又阻碍了晶粒的长大,导致Ni-S沉积层的晶粒细化、非晶态化程度和硫含量的提高。所制备的Ni-S合金涂层具有较好的附着力,用于碱性水电解时有较高的析氢活性。当镀液中磺基水杨酸浓度为5 g/L时,Ni-S合金镀层附着力增大至19 MPa,析氢过电位降低约13 mV。