用于波分复用的双层氮化硅垂直光栅耦合器的仿真分析

作者：吉喆; 李东; 付士儒

来源：石家庄铁道大学学报(自然科学版), 2023, 36(04): 82-113.

DOI：10.13319/j.cnki.sjztddxxbzrb.20230188

• 双层Si3N4
• 垂直光栅耦合器
• 波分复用
• 仿真优化
• 耦合效率

面向波分复用技术提出了一种双层Si3N4垂直光栅耦合器结构。基于时域有限差分(FDTD)方法对该结构模型(2D)进行了仿真及优化，重点研究了双层Si3N4的宽度、厚度、位置关系以及双层Si3N4结构距离光栅的高度对耦合效率的影响。结果表明，对于1 550 nm波长的TE偏振入射光垂直入射，当光栅周期为579 nm,占空比为67.5%,加入厚度为60 nm的金属Al反射镜及双层Si3N4结构后，光栅耦合效率超过了94%。与未添加金属反射镜和双层Si3N4的垂直耦合光栅相比，耦合效率提高了约46%。

• 单位
  石家庄铁道大学