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摘要
试样制备是透射电镜表征的关键，而传统的离子减薄方法效率低下，难以满足大批量的测试需求。以单晶硅基底上沉积的极紫外多层膜为例，介绍了一种同时制备多个透射电镜截面试样的离子减薄方法。结果表明：该方法不仅缩短了离子减薄的时间，还缩短了透射电镜装取试样与抽真空的时间。
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试样制备是透射电镜表征的关键，而传统的离子减薄方法效率低下，难以满足大批量的测试需求。以单晶硅基底上沉积的极紫外多层膜为例，介绍了一种同时制备多个透射电镜截面试样的离子减薄方法。结果表明：该方法不仅缩短了离子减薄的时间，还缩短了透射电镜装取试样与抽真空的时间。
