原子力显微镜电场辅助纳米沉积加工

作者：刘增磊; 杨旭; 高爱莲; 刘忠超; 王栋; 李密

来源：微纳电子技术, 2018, 55(12): 910-916.

DOI：10.13250/j.cnki.wndz.2018.12.009

• 原子力显微镜(AFM)
• 纳米焊接
• 纳米加工
• 场蒸发沉积
• 纳米器件

主要研究了基于原子力显微镜(AFM)的场蒸发沉积加工方法,分析了影响沉积加工的因素。通过选择适当的针尖和样品间的距离、加工电压和探针运动速度等参数,实现了纳米点、纳米线及纳米字符等纳米结构的加工。纳米点加工中,加工参数保持不变,纳米点的高度变化不大,平均高度约为1.5 nm。纳米线加工中,通过改变加工电压和探针运动速度,加工得到了不同高度的纳米线,其高度最小约为1.5 nm,最高可达65 nm。总体上,沉积加工重复性、可控性较好。然而,沉积加工的起始位置容易产生高度过大的点,并且在纳米线与纳米字符的加工中,加工结果呈现规律性的偏移。分析表明,以上问题主要与探针形貌以及大气环境有关。此外,加工电压过高时也容易导致高度不均匀。

• 单位
  山东交通学院; 南阳理工学院; 中国科学院沈阳自动化研究所